Ðü术Ë¿绍

ì¤创ãæÐü术确ÜÁõÌÊ¢àõÒöîÜÐê业

î¸温Ôõ离í­ð¶ö«Ðï

Low Temperature Plasma Deodorizer

将üÀàõ氧î¤î¸温Ôõ离í­Úã应Ïõ转换à÷氢氧 ûùí»ë¦Ðñ£¬并ûèùêÔõ离í­£¨üÀàõ氧/í»ë¦Ðñ£©ûú恶ö«气体ý¨£¬î¤ÒýÍîàõî§ÖùñéÝÂú°îÜ复ùêÚã应Ðü术¡£

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区ÝÂ 结构Ý» ÍíÒö
ð¶ö«Ïõ 电晕Û¯电Ý» ÷×过ÍÔ电压£¨电晕£©Û¯电诱导Ôõ离í­现ßÚ¡£
发ßæüÀàõ离í­ì¤诱导恶ö«气体îÜ氧ûùûúÝÂú°Úã应¡£
õÊûùÝ» éÄõÊûù剂Ì­üÀ氧ûùÚã应£¬ì¤ð«ÍÔ恶ö«气体îÜð¶ö«üùáã¡£

÷åïÖ

  • ÷×过电晕Û¯电Ý»ûúüÀàõ离í­îÜ离í­氧ûùÐü术
  • ××éÄõÊûù剂îÜð¶ö«Úã应Ì­üÀÐü术
  • 对复ùê恶ö«ÞªßÈêóüù
  • 对负ùÃ变动ÞªßÈË­
  • 2ó­污æøÚªîÜ发ßæÕáá´£¬ÞªßÈ环ÜÁ
  • 维护η×â费á´£¬ÞªßÈ经济

应éÄ

  • ù»â©ûú废â©处×â场
  • Ê«õåûúõå产粪Òã处×â场

ÜôÔÒã¿ÍïÛöîÜ处×âüùáãÝï较

Ýï较项ÙÍ 电晕离í­õÊûù剂 ýåݾãÒ 药äûá©净ãÒ
Íïïï概é© ××éÄ电晕Û¯电ûúÔõ离í­£¬
õÊûù剂氧ûù恶ö«
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øÚó¢恶ö«
ÐñéÍâ©¡¢ß«¡¢碱Ôõâ©éÁäûîÜ
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优ïà 对复ùê恶ö«ÞªßÈêóüù
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ã¿Íï简øµ
ËÀÌ«î¸Ö¯
设备简单
对与药äûîÜÚã应àõÓÞîÜÚª
质ÞªßÈêóüù
ÌÀïà 发ßæ过Õáâ©ÝÂ时âÍé©îñ处×â设备 经ßÈÌÚ换
ì×脱ßä发ßæ2ó­污æø
维护η×â难
发ßæÓÞÕáûù学废â©
设备ݯ蚀严ñì
ÎÁéÄàõ ð¶复ùê恶ö«发ßæò¢èâ
ʦÎÁéÄéÍÊÀ种恶ö«
ÎÁéÄéÍî¸浓Óø恶ö« ð¶复ùê恶ö«发ßæò¢èâ
还ÎÁéÄéÍ÷åïÒ恶ö«
设备费 ñé间ËÀ î¸ËÀ ñé间ËÀ
维护费 î¸ËÀ ÍÔËÀ ÍÔËÀ

实绩

ݼߣà¤Ý»ÞÀ业á¶ 80CMM
÷©ô¹总磷处×â设ã¿ 120CMM, 10CMM
ݼߣç¶ò®ù»â©处×â场 400CMM

ÍÔ浓Óøð¶氮ͧ统

Ammonia Stripping Tower

ðíî¤éÍâ©ñéîÜ铵离í­÷×过pH调ïÚ转变à÷氨气ý¨£¬÷×过与Íö气îÜïÈ触从â©ñéÝÂ离氨气îÜÐü术¡£对ÑáÞÁéÄ现êóîÜßæÚª学脱氮ÛöÙéÛö处×âîÜ废â©£¬Ê¦ì¤实现ÍÔ浓Óø氨îÜßæÚª处×⣬ãÀìé种÷×过ËÛð¶废â©内îÜ氮£¬将C/NÝïÖÇ调ïÚÓðÎÁ当â©øÁ£¬并êóüù¡¢稳ïÒò¢进ú¼ßæÚª处×âîÜÐü术¡£

ê«×â

  • 脱气ðË£º发ßæî¤填ØØ场×ìîÜöÙõóâ©ãÀ××éÄ 氨ö£脱Ûö让â©ñéîÜ氨氮î¤ÓÞ气ñéö£ñË£¬ì¤达Óðâ©处×âÙÍîÜ£¬êóð¾éÍßÓ连处×â场î¤â©质许 ʦÛö×È标ñ×Ûõ围内进ú¼处×â¡£
  • 脱气÷²£º废â©ñéá¶ùßîÜ氮ãÀ÷×过脱气à¿让ÓÞÕáÍö气âà环£¬并让氨转换à÷气体状态¡£
  • ð¶ö«÷²£¨ýåâ¥÷²£©£º÷×过øÐÎÀýåâ¥äûîÜ湿Ûöá©净将废â©ñéá¶ùßîÜ氨气 à÷ÝÂ转换à÷Ùéúª¡¢ÙéÚ«à÷Ý¡£

净ûùîÜ气体经过数õ©îÜïÎ׺时间ý¨£¬会ÝÂ离à÷气体ûúäû体£¬并ÛÉõóÙéúª¡¢ÙéÚ«à÷Ý£¬ì»净ûùîÜäû体ÛÉìý×µÕá调ïÚðË并 ʦì¤î¤ý¨Ó®ßæÚª处×âÍïïï进ú¼连ïÈ处×â¡£

÷åïÖ

  • ð¶氨氮îÜ脱气ûú综ùêͧ统
  • ôøÑ¢氨对负ùÃ变动ÞªßÈË­
  • ÍÔüùð¶氮
  • êó××éÍÍÔpH
  • 设备÷á资费éÄá´£¬维护Û°øµ
  • Üôáô×µìýâ©盐ÓøîÜç¯响

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  • öÙõóâ©处×â设ã¿
  • ùßÍÔ浓Óø氮îÜ废â©
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